電鍍工藝故障的排除方法

隨著市場經濟的發展，電鍍工藝管理上的加強，產品質量的提高，已經勢在必行。然而筆者在接觸和實踐中發現,眾多的工藝故障發生,產品質量的弊病,不是工藝本身有問題,也不是工藝配方誤差大,而是在工藝管理上有缺陷.特別是忽視前、后兩道工藝的規范,從而鍍層發霧（低層）、起泡、亮皮、陰陽面、花紋、水跡等等一系列弊病出現，造成產品返工率擴大，成本上升，信譽受到影響。對電鍍工藝前、后兩道工序，要說最易解決，但也最難實施。主要是有一種誤導的觀點在操作者思想上，即：“我們原來也是這樣做的...”，從而一直使工藝管理上存在困境。為此，提高認識，實實在在的把工藝管理放在第一位，才是排除工藝弊病的第一關。 

              
    銅—鎳—鉻體系中常見病疵： 
              
    系統講這個體系范圍比較大，目前較多為廣泛應用的工藝有： 
              
    1． 氰化銅—亮鎳—鉻 
              
    2． 氰化銅—光亮酸銅—鉻 
              
    3． 暗鎳—光亮酸銅—鉻 
              
    上述工藝，目前經常碰到的問題綜述如下： 
             
     1． 堿銅槽：鍍層粗糙，色澤豬肝色或暗紅，陽極易鈍化，工作電壓偏高等。 
              
    2． 滾鍍亮鎳槽：工作電壓高，電流效率低，光亮度不夠，電鍍時間與光亮劑說明書上不符，時間長。 
              
    3． 吊鍍鎳：小電流密區發暗，發黑，深鍍能力較差。 
              
    4． 光亮酸銅槽：光亮比例易失調，難調整。 
              
    5． 銅—鎳槽中易有毛刺、花霧、殼皮現象。 
              
    6． 鍍天線桿經常有少量殼皮現象。 
              
    存在這些病疵的主要原因及糾正指南可以從下面幾個方面給予考慮： 
              
    1． 按工藝流程要求，健全工藝流程每一道工序，特別是清洗工序和活化工序。 
              
    2． 氰化鍍銅槽液一般工藝成份應控制在： 
            予鍍銅： 游離NaCN:Cu=0.6—0.8：1 
            一般鍍銅：游離NaCN:Cu=0.5—0.7：1 
            含有酒石酸鉀鹽或硫氰酸鹽的鍍銅液中： 
            吊鍍： 游離NaCN:Cu=0.6—0.6：1 
            滾鍍： 游離NaCN:Cu=0.6—0.7：1 
              
    3．解決鍍層的起泡、殼皮的原因；首先要檢查前處理的除油及除銹工藝。其在此我需要告誡一下的是，不同的油類要選擇不同的去油法，不能一聽這個介紹，那一個宣傳，就用上去，因為各種零件在形狀上，拋光的油跡各有不同，再加上各種材質不同，同時去用弱堿或強酸的去油方法，效果各有不同。如天線桿的殼皮，主要還是去油化拋上存在的問題較多，其次才是掛具結構上的原因。因為銅件不能用高溫、強堿中除油，不妨大家可以一試。 

             
     4．要解決光亮酸銅中光亮劑比例失調，難控制的問題，主要是提高企業的技術水平，要對專業技術人才的維護管理上下一點功夫。特別對使用M.N.SP的廠家，要摸索一條針對自己產品的添加經驗來，很多廠家就是根據自己的產品制定了添加的量，從而一直來比較穩定。 

              
    其次，選擇比較單一添加方式的光亮劑：如“330”、“991”等系列易控制，光亮度又好的光亮劑，這樣能有快又好解決比例失調的病疵。